Inception – Halbleiter-Maschine zur Single-Wafer-Bearbeitung

• Ermöglicht den Übergang von F&E zur Kleinserie in der Halbleiterfertigung
• Für Reinigungs-, Ätz-, Strip- und Trocknungsanwendungen

Die Halbleiterexperten von RENA Technologies NA haben ihr Portfolio an Nassbearbeitungslösungen um eine neue Maschine erweitert. Als anerkannter Spezialist für Batch-Tauch- und Spraytechnologie freut sich RENA, die Markteinführung der neuen Single-Wafer-Plattform für die Halbleiterbearbeitung namens „Inception“ bekanntzugeben.

Die Inception ermöglicht den Übergang von der F&E zur Kleinserienproduktion für alle Halbleiter-Nassprozesse wie Reinigen, Ätzen, Strippen und Trocknen.

Die erste Inception Single-Wafer-Maschine wurde bereits an einen großen Compound Semiconductor-Kunden geliefert, der sie für einen sauren Reinigungsprozess einsetzen wird.

Ed Jean, CEO von RENA Technologies NA, erläutert: „Wer als Werkzeug nur einen Hammer hat, sieht in jedem Problem einen Nagel. Sowohl Batch-Maschinen für Tauch- und Sprayanwendungen als auch Single-Wafer-Maschinen haben ihre Berechtigung in der Nassbearbeitung. Die meisten Anbieter setzen jedoch auf eine „Einheitslösung“, nämlich ihre spezielle Plattform, die sämtliche Anwendungen abdecken soll. Dagegen bietet RENA jetzt mit der Single-Wafer-Maschine die passende Plattform für alle Nassprozesse wie Reinigen, Ätzen oder Strippen.“

Heath Phillips, Spray Product Manager bei RENA Technologies NA, ergänzt: „Die Inception Single-Wafer-Plattform ermöglicht unseren Kunden, die Tests in Bechergläsern und Schalen durchführen, die nötige Konsistenz, um einen protokollierbaren und automatisierten Prozess zu entwickeln.“

Merkmale der Inception Single-Wafer-Plattform:

• Anwendung bei FEoL- & BEoL-Prozessen (Säure bzw. Lösungsmittel)
• Automatische Wafer-Bedienung (manuelles Beladen optional)
• Wafer bis zu 200 mm und Masken bis zu 7 x 7
• Doppelte bewegliche Sprüharme mit separaten Chemikalienleitungen
• Feststehende untere Sprühdüsen für DI und N2
• Gleichmäßigkeit beim Ätzen, die Batch-Systemen überlegen ist
• Standard-Doppeltankdesign ermöglicht Mehrschrittbearbeitung (4er-Tank optional)
• Einzel- oder Doppel-Load-Ports
• Geringer Strom- und Wasserverbrauch
• Kleine Standmaße: 36" B x 83" H x 76" L
• Hochflexible Software für eine schnelle Prozessentwicklung