Singulus Technologies Aktiengesellschaft: Auftrag von Fraunhofer ISE für eine Vakuum-Beschichtungsanlage von SINGULUS TECHNOLOGIES

SINGULUS TECHNOLOGIES hat vom Fraunhofer-Institut für Solare Energiesysteme ISE einen Auftrag für die Lieferung einer Kathodenzerstäubungsanlage (Vakuumbeschichtung mittels Sputtering) des Typs VISTARIS 600 für das aktuell in Betrieb gehende "Zentrum für höchsteffiziente Solarzellen (ZHS)" in Freiburg, Deutschland, erhalten. Die Wissenschaftler des Fraunhofer ISE wollen mit der neuen Anlage Schichtsysteme für höchsteffiziente Solarzellen der nächsten Generation abscheiden und hierfür neuartige Materialen und Prozesse entwickeln. Im ZHS sollen neuartige Hocheffizienz-Solarzellen entwickelt und hergestellt werden, wobei bereits in dieser frühen Technologiereifephase auf die industrielle Skalierbarkeit der Prozesse und Maschinen Wert gelegt wird. Ein Schwerpunkt der Entwicklungen bei der VISTARIS 600 liegt hierbei auf dem schädigungsarmen Beschichten unterschiedlicher Substrate.

Dr. Stefan Rinck: "Wir freuen uns, dass sich das Fraunhofer ISE für unsere Beschichtungsanlage entschieden hat. SINGULUS TECHNOLOGIES und das Fraunhofer ISE haben bereits eine langjährige Kooperation bei der Entwicklung von leistungsfähigen Solarzellen. SINGULUS TECHNOLOGIES wird zusammen mit dem Fraunhofer ISE auch in Zukunft wegweisende neue Solarzellentypen und -technologien entwickeln und die Wettbewerbsfähigkeit der deutschen PV-Industrie steigern." Dr. Stefan Rinck fährt fort: "Wir wollen auch zusammen mit den Entwicklern vom Fraunhofer ISE an den Themen Wasserstoffnutzung und Brennstoffzellen arbeiten."

Für höchste Wirkungsgrade setzt das ISE vor allem auf das Stapeln von zwei Solarzellen mit unterschiedlicher spektraler Lichtabsorption, die sogenannten Tandemzellen. Um die beiden Zellstrukturen optimal aufeinander abzustimmen und den Energieverlust zu minimieren, sind funktionale dünne Schichten mit angepassten optischen und elektronischen Eigenschaften nötig. Die VISTARIS 600 erlaubt es, mit Hilfe von industriell skalierbaren Sputterverfahren oxidische und metallische Schichtsysteme abzuscheiden und an die Anforderungen der Höchsteffizienzzellen anzupassen.