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Furukawa in Japan setzt auf AIXTRONs MOCVD-Technologie zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente
AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat einen Auftrag über eine AIX 2800G4 MOCVD-Anlage von FURUKAWA FITEL OPTICAL DEVICE CO. (FFOD), einem in Japan ansässigen Hersteller von Verbindungshalbleitern, erhalten. Die Anlage wird für die Entwicklung und Produktion von optoelektronischen Bauelementen auf der Basis von Galliumarsenid (GaAs) und Indiumphosphid (InP) eingesetzt. Die AIX 2800G4-Plattform ist die etablierte und marktführende Anlage für die Produktion verschiedener Halbleiterbauelemente aufgrund der unübertroffenen Leistung des Planetary Reactor®-Konzepts in Bezug auf die Kontrolle der Schichtdicken und der Wellenlängenhomogenität von Epitaxieschichten. Das bewährte System für die Großserienfertigung bietet höchste Effizienz beim Einsatz der Rohstoffe und liefert dank der Prozesskontrolle auf Waferebene…
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AIXTRON bringt die G10‑SiC 200 mm Produktlösung der nächsten Generation für Siliziumkarbid-Epitaxie auf den Markt
AIXTRON SE hat seine neue G10-SiC 200 mm-Anlage für die Herstellung von Siliziumkarbid-Bauelementen („SiC“) der neuesten Generation auf 150/200 mm SiC-Wafern vorgestellt. Dieses Hochtemperatur-CVD-System, das die Innovation auf die nächste Stufe hebt, wurde gerade auf der Internationalen Konferenz für Siliziumkarbid und verwandte Materialien (ICSCRM) angekündigt, die derzeit in Davos, Schweiz, stattfindet. SiC, das Materialsystem mit großer Bandlücke (wide-band-gap) ist auf dem besten Weg, zur Mainstream-Technologie für effiziente Leistungselektronik zu werden. SiC trägt wesentlich zur Dekarbonisierung unserer modernen Gesellschaft bei und unterstützt damit den Klimaschutz. Angetrieben durch den zunehmenden Einsatz von SiC-basierten Leistungshalbleitern im Rahmen von Elektromobilitätslösungen steigt die weltweite Nachfrage nach SiC-Wafern rapide an, was durch die Motivation, die Abhängigkeit…
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AIXTRON: Starke Auftragslage – Weiter voll auf Wachstumskurs
Die AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, verzeichnete im zweiten Quartal 2022 den höchsten Auftragseingang seit 2011, getragen durch eine hohe Nachfrage aus nahezu allen adressierten Endmärkten. Die anhaltend hohe Nachfrage insgesamt, aber insbesondere die wachsende Nachfrage nach Anlagen zur Produktion effizienter Leistungselektronik auf Basis der Materialsysteme Siliziumkarbid (SiC) und Galliumnitrid (GaN) sorgt für eine hervorragende Auftragslage bei AIXTRON, womit im Jahresvergleich im zweiten Quartal des Geschäftsjahres 2022 Umsatzerlöse und Gewinn erheblich gesteigert werden konnten. Aufgrund der ungebrochen starken Nachfrage erwartet der Vorstand in den kommenden Quartalen des Geschäftsjahres 2022 ein weiterhin hohes Niveau bei den Aufträgen und signifikantes Wachstum bei den…
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AIXTRON CCS MOCVD-Anlage für die University of Texas in Austin zur Herstellung von Galliumoxid-Leistungselektronik
AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass sie eine neue AIXTRON Close Coupled Showerhead (CCS)-Beschichtungsanlage an die University of Texas at Austin, Microelectronics Center (MRC), Department of Electrical and Computer Engineering, liefern wird. Die hochmoderne MOCVD-Beschichtungsanlage ist so konfiguriert, dass sie sowohl Galliumoxid (Ga2O3) als auch Galliumnitrid (GaN)-basierte Materialien verarbeiten kann. Beide Materialien sind als Materialien mit breiter und ultrabreiter Bandlücke qualifiziert – Galliumoxid und seine Legierungen können bei höheren Spannungen, Frequenzen und Temperaturen arbeiten als die herkömmlichen Halbleitermaterialien. Diese Eigenschaften eröffnen neue Anwendungen in den Bereichen Fotodioden und Leistungsschalter. Hochflexibel – höchst zuverlässig Die AIXTRON MOCVD-Anlage kann leicht…
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Virtuelle Hauptversammlung 2022
Die Aktionärinnen und Aktionäre der AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), einem weltweit führenden Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, nahmen heute sämtliche Beschlussvorlagen an, die Vorstand und Aufsichtsrat auf der diesjährigen 25. ordentlichen Hauptversammlung präsentierten. Mit großer Mehrheit haben sie die Mitglieder des Vorstands und des Aufsichtsrats für das Geschäftsjahr 2021 entlastet. Herr Dr. Stefan Traeger, Vorstandsvorsitzender der JENOPTIK AG und Herr Kim Schindelhauer, bisheriger Aufsichtsratsvorsitzender, sind ebenfalls mit großer Mehrheit in den Aufsichtsrat der AIXTRON SE gewählt bzw. wiedergewählt worden. Es wurde eine Dividende in Höhe von EUR 0,30 pro dividendenberechtigter Stückaktie beschlossen und der zur Billigung erstmalig vorgelegte Vergütungsbericht wurde von den Aktionärinnen und Aktionären mehrheitlich angenommen.…
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AIXTRON baut Marktführerschaft bei MOCVD-Anlagen aus
AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), weltweit führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass AIXTRON seinen Marktanteil bei MOCVD im Jahr 2021 ausbauen konnte und somit der größte Anbieter von MOCVD-Anlagen[2] weltweit ist. Das Marktforschungsinstitut Gartner hat ermittelt, dass AIXTRON einen 75%-Anteil des Marktes innehatte, während die Wettbewerber aus China und den USA mit 14% und 11% deutlich geringere Marktanteile vorwiesen. Gleichzeitig ist der weltweite Markt für MOCVD-Anlagen im Jahr 2021 auf insgesamt USD 561 Mio. um 28% gewachsen (2020: USD 438 Mio.). Die MOCVD-Anlagen von AIXTRON sind von der Industrie in vielen Märkten als Referenzanlagen akzeptiert. Die AIXTRON-Anlagen kommen bei der Fertigung von Leistungshalbleitern aus…
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AIXTRON liefert Depositionsanlagen für die Spitzenforschung an das Micron Center for Materials Research
AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, gab heute bekannt, dass AIXTRON Ltd., eine Tochtergesellschaft der AIXTRON SE, eine Depositionsanlage des Typs Close Coupled Showerhead® Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (CCS® MOCVD) für Verbindungshalbleitermaterialien an die Boise State University liefern wird. Die CCS® 3×2-Anlage ist ein wesentlicher Bestandteil einer Infrastrukturerweiterung, die der Boise State University zugesprochen wurde. Die AIXTRON CCS 3×2, die an Boise geliefert wird, hat eine Kapazität von 3×2" Wafern. Die Anlage wird eine maximale Betriebstemperatur von 1.400 C haben, die die Abscheidung von Graphen und hBN auf Saphir sowie neuartige Strukturen für GaN-basierte UV-LEDs ermöglicht. Ausgestattet mit einer Vielzahl von Kanälen…
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AIXTRON: Hohe Nachfrage aus allen Endmärkten
Die AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6), ein führender Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, verzeichnet zum Jahresstart weiterhin eine hohe Nachfrage aus allen adressierten Endmärkten. Im Jahresvergleich konnten im ersten Quartal des Geschäftsjahres 2022 sowohl Auftragseingang als auch Umsatzerlöse, Bruttoergebnis und Nettoergebnis teils erheblich gesteigert werden. Vor dem Hintergrund dieser Entwicklung und angesichts der positiven Geschäftsaussichten bestätigt der Vorstand die Wachstumsprognose für das Gesamtjahr 2022. Auftragseingänge auf hohem Niveau mit Nachfrage aus allen Endmärkten Der Auftragseingang des ersten Quartals 2022 bewegt sich mit EUR 130,2 Mio. auf sehr hohem Niveau und lag damit 5 Prozent über dem Auftragseingang des Vorjahresquartals (Q1/2021: EUR 124,4 Mio.). Die stärkste Nachfrage kam aus…
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AIXTRON: Junge Aktien aus mit separater ISIN/WKN aus Aktienoptionsprogramm
AIXTRON SE (FSE: AIXA), ein führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, ermöglicht Mitarbeitern über Aktienoptionsprogramme die Möglichkeit einer Beteiligung am Grundkapital der Gesellschaft. Gemäß den Bedingungen des Aktienoptionsprogramms 2012 können berechtigte Mitarbeiter derzeit Aktienoptionen zu Ausübungspreisen zwischen EUR 13,14 und EUR 14,01 ausüben. Die daraus entstehenden so genannten "jungen Aktien" erhalten eine separate ISIN/WKN (International Securities Identification Number/Wertpapierkennnummer) und sind für das Geschäftsjahr 2021 nicht dividendenberechtigt. Die jungen Aktien werden ab heute bis einschließlich zum Tag der Hauptversammlung am 25. Mai 2022 unter der separaten ISIN DE000A3MQD61 / WKN A3M QD6 an der Frankfurter Wertpapierbörse gehandelt. Ergebnisverwendung Angesichts der sehr positiven Geschäftsentwicklung im abgelaufenen Geschäftsjahr plant AIXTRON, erneut eine…
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AIXTRON: Weiteres Wachstum in allen Dimensionen
65% mehr Aufträge und 59% höhere Umsätze in 2021 Rekordauslieferungen im vierten Quartal Zweistelliges Wachstum in 2022 erwartet Hohe Werte bei EU-Taxonomie-Konformität KPMG neuer Abschlussprüfer Die AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) hat im Geschäftsjahr 2021 kräftig zugelegt. Aufträge, Umsatz und auch Ergebnis stiegen signifikant. AIXTRON hat im vierten Quartal mit EUR 181 Mio. Umsatz einen Auslieferungsrekord verzeichnet und damit die Flexibilität seines Produktionsmodells bewiesen. Die angehobene Prognose für das Geschäftsjahr 2021 wurde vollumfänglich erfüllt. Für 2022 wird wieder ein zweistelliges Wachstum erwartet. Auftragsboom auf breiter Basis Der Auftragseingang im Berichtsjahr 2021 in Höhe von EUR 497,3 Mio. hat den Vorjahreswert um 65% übertroffen. Im vierten Quartal erhielt AIXTRON Aufträge…
